イオンプレーティングとは、真空状態でガス放電によりガスまたは蒸着物を部分的にイオン化し、ガスイオンまたは蒸着物イオンの衝撃により蒸着物またはその反応物を基板上に堆積させる方法である。 マグネトロンスパッタリングイオンプレーティング、リアクティブイオンプレーティング、ホローカソード放電イオンプレーティング（中空陰極蒸着法）、マルチアークイオンプレーティング（カソードアークイオンプレーティング）などがあります。

イオンプレーティングでは、蒸着材料粒子が荷電イオンの形で電場内を電場の方向に沿って移動するため、電場のある部分ならどこでも良好なコーティングが得られ、通常の真空コーティングしかできない通常の真空コーティングよりも優れています。ダイレクトに取得できます。 はるかに。

最も一般的に使用される鉄ベースおよび銅ベースの結合剤をマトリックスとして使用し、表面にメッキされていないダイヤモンドとチタンメッキされたダイヤモンドをそれぞれ追加し、異なる焼結温度でホットプレス焼結して、鉄ベースおよび銅ベースの結合剤マトリックスを取得します。セグメントの曲げ強度をテストし、セグメント セクションの微視的形態を観察することによって、メタル ボンド ダイヤモンド セグメントの保持力に対するダイヤモンド表面のチタン メッキの影響を調べました。

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